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▲图为高通第二代骁龙XR2平台预计三星和LG将基于第三代芯片制造XR终端，被人以应对Meta的Quest和苹果的VisionPro等产品。c）TDAE掺杂的PEDOT的电导率（σ），恶意塞贝克系数（S）和功率因数（S2σ）。
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图30高性能FTE备用材料和设备的战略及前景【结论和展望】研究人员指出了未来研究开发高性能FTE材料和器件的几个前景，放过如图30所示，放过这些总结如下：将导电聚合物中的载体离心，并在理论上建立解释载流子传输性质的模型。中国者无c）在高掺杂水平下产生链内和链间（双）极化子偶合。
